Gjør som tusenvis av andre bokelskere
Abonner på vårt nyhetsbrev og få rabatter og inspirasjon til din neste leseopplevelse.
Ved å abonnere godtar du vår personvernerklæring.Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
Handbook of Chemical Vapor Deposition
- Principles, Technology and Applications
- Bindende:
- Hardback
- Sider:
- 506
- Utgitt:
- 1 september 1999
- Utgave:
- 2
- Dimensjoner:
- 164x237x40 mm.
- Vekt:
- 944 g.
Gratis frakt
Leveringstid:
2-4 uker
Forventet levering: 24 oktober 2024
Om Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) Pierson
Se alle bøkene av Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) PiersonBeskrivelse av Handbook of Chemical Vapor Deposition
Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.
Brukervurderinger av Handbook of Chemical Vapor Deposition
Vurder denne boken
Du må være innlogget for å vurdere denne boken.Andre har også kjøpt..
Finn lignende bøker
Boken Handbook of Chemical Vapor Deposition finnes i følgende kategorier:
Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
© 2024 Tales.no
