Utvidet returrett til 31. januar 2025

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Om Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Vis mer
  • Språk:
  • Ukjent
  • ISBN:
  • 9781032386706
  • Bindende:
  • Hardback
  • Sider:
  • 354
  • Utgitt:
  • 15. desember 2023
  • Dimensjoner:
  • 156x0x234 mm.
  • Vekt:
  • 852 g.
  • BLACK NOVEMBER
  Gratis frakt
Leveringstid: 2-4 uker
Forventet levering: 15. desember 2024

Beskrivelse av Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Brukervurderinger av Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes



Finn lignende bøker
Boken Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes finnes i følgende kategorier:

Gjør som tusenvis av andre bokelskere

Abonner på vårt nyhetsbrev og få rabatter og inspirasjon til din neste leseopplevelse.