Gjør som tusenvis av andre bokelskere
Abonner på vårt nyhetsbrev og få rabatter og inspirasjon til din neste leseopplevelse.
Ved å abonnere godtar du vår personvernerklæring.Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
- Bindende:
- Hardback
- Sider:
- 144
- Utgitt:
- 1. januar 2012
- Dimensjoner:
- 162x234x14 mm.
- Vekt:
- 352 g.
-
BLACK NOVEMBER
Gratis frakt
Leveringstid:
Ukjent
Beskrivelse av Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.
Brukervurderinger av Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Vurder denne boken
Du må være innlogget for å vurdere denne boken.Andre har også kjøpt..
Finn lignende bøker
Boken Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus finnes i følgende kategorier:
Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
© 2024 Tales.no
