Gjør som tusenvis av andre bokelskere
Abonner på vårt nyhetsbrev og få rabatter og inspirasjon til din neste leseopplevelse.
Ved å abonnere godtar du vår personvernerklæring.Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching
del av Physics of Thin Films-serien
- Bindende:
- Hardback
- Sider:
- 328
- Utgitt:
- 29. september 1994
- Dimensjoner:
- 236x158x27 mm.
- Vekt:
- 642 g.
Gratis frakt
Leveringstid:
2-4 uker
Forventet levering: 17. januar 2025
Utvidet returrett til 31. januar 2025
Beskrivelse av Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching
Includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalanced magnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
Brukervurderinger av Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching
Vurder denne boken
Du må være innlogget for å vurdere denne boken.Andre har også kjøpt..
Finn lignende bøker
Boken Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching finnes i følgende kategorier:
Du kan når som helst melde deg av våre nyhetsbrev.
© 2024 Tales.no
